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high temperature furnace (458)  Produttore online

Forno di alluminizzazione chimica a vapore 900-1050C personalizzabile con codificazione Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Periodo di raffreddamento facile della fornace dello stampaggio ad iniezione del metallo di manutenzione ≤5h/≤6h/≤8h

Nome: fornace dello stampaggio ad iniezione del metallo

Impiegati lavoranti di massimo: ℃ 1550

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Fornace di sinterizzazione su misura della prova MIM per il processo ferroso e di titanio di Debinding

Temperatura: 2100℃ massimo

Colore: In bianco e nero

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Pressa di stampaggio isostatica calda Max Temperature 1600℃ di vuoto industriale

nome: Fornace industriale di vuoto

Applicazioni: Carburo cementato, precisione ceramica, acciaio inossidabile, ferro-bae alloy.ect

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Fornace 1MPa AC210V-250V del HIP del carburo cementato per la pressatura isostatica calda

nome: Fornace del HIP

Pressione di esercizio massima: 10bar

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Forno per rivestimento CVD a carburo di silicio per sensibilità al grafite o per anello di incisione

Imballaggi particolari: casse in legno

Tempi di consegna: 5-6 mesi

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Forno di rivestimento CVD a rotella di sigillamento con precursori di CO e distributore di gas di secondo stadio

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Corrosione militare della fornace di sinterizzazione del nitruro di silicio di industria resistente all'uso

Misurazione di temperatura: W-ri 5/26 di termocoppia

Tempo di impiego: 20 anni

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Il forno a carburo del silicio dello SpA per l'automobile frena le frizioni dell'automobile ed i piatti ceramici

Colore: bianco, grigio, nero, blu

SpA: Siemens S7-1500

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Fornace di sinterizzazione ceramica del carburo di silicio dei piatti per i pezzi di ricambio dell'automobile

Colore: bianco, grigio, nero, blu

SpA: Siemens S7-1500

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Un buon prezzo. Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 1000*1000*1500mm di spazio effettivo in linea Video

Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 1000*1000*1500mm di spazio effettivo

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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AICL3 Precursori Forno di deposizione chimica a vapore per utensili da taglio a temperatura di processo 700-1050 °C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno a carburo del silicio di sinterizzazione per i materiali ultra alti di durezza

Colore della pittura: ecc grigio, blu, bianco

Tempo di impiego: 20 anni

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Fornace automatica piena del HIP di sinterizzazione per il riscaldamento resistente delle metallurgie delle polveri

Specificazione: Può essere personalizzato secondo i requisiti di cliente

Campo di applicazione: metallurgie delle polveri

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MT-CVD Forno per rivestimento HT-CVD con elevata qualità del rivestimento e reattore personalizzabile

Temperatura ricoprente: 200-1050℃

Sistema di raffreddamento: 2 insiemi delle trappole condensate raffreddate ad acqua ad alto rendimento

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Fornace di sinterizzazione del nitruro di silicio con grande uniformità dell'atmosfera

Colore della pittura: ecc. grigio, blu, bianco, verde.

Potenza nominale: 320KVA, 430KVA, 480KVA

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