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high temperature furnace (475)  Produttore online

TiC/TiN/TiCN/a-Al2O3/k-Al2O3 Rivestimenti Forno CVD con controllo della temperatura 700-1050°C

Zona di riscaldamento: 4 pezzi/5 pezzi

Temperatura massima:: 1100℃

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Un buon prezzo. Forno di sinterizzazione del carburo di silicio RDE Ottenimento di eccellenza di temperatura per la devascazione della gomma e altri a 0,5-1 bar Pressione in linea Video

Forno di sinterizzazione del carburo di silicio RDE Ottenimento di eccellenza di temperatura per la devascazione della gomma e altri a 0,5-1 bar Pressione

Temperatura: 2200℃

Dimensione della camera: 300*300*600mm/500*500*1200mm/500*500*1800mm/cutomize

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Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno per rivestimento CVD in ceramica Honeycomb per temperatura di processo 700-1050C e neutralizzatore di gas non elettrico opzionale

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Un buon prezzo. Forno di graffitizzazione a vuoto industriale per materiale a carbonio in linea Video

Forno di graffitizzazione a vuoto industriale per materiale a carbonio

Max.temperatura di lavoro ((°C): 2500

Vuoto finale (Pa): 1

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Forno di alluminizzazione chimica a vapore 900-1050C personalizzabile con codificazione Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Periodo di raffreddamento facile della fornace dello stampaggio ad iniezione del metallo di manutenzione ≤5h/≤6h/≤8h

Nome: fornace dello stampaggio ad iniezione del metallo

Impiegati lavoranti di massimo: ℃ 1550

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Fornace di sinterizzazione su misura della prova MIM per il processo ferroso e di titanio di Debinding

Temperatura: 2100℃ massimo

Colore: In bianco e nero

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Il termale elabora la resistenza allo scorrimento del forno di ricottura del metallo del molibdeno

Imballaggi particolari: Scatola di legno speciale

Tempi di consegna: 5-8 mesi

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Pressa di stampaggio isostatica calda Max Temperature 1600℃ di vuoto industriale

nome: Fornace industriale di vuoto

Applicazioni: Carburo cementato, precisione ceramica, acciaio inossidabile, ferro-bae alloy.ect

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Fornace 1MPa AC210V-250V del HIP del carburo cementato per la pressatura isostatica calda

nome: Fornace del HIP

Pressione di esercizio massima: 10bar

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Forno per rivestimento CVD a carburo di silicio per sensibilità al grafite o per anello di incisione

Imballaggi particolari: casse in legno

Tempi di consegna: 5-6 mesi

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Un buon prezzo. HTCVD Forno di crescita epitaxi di carburo di silicio CVD SIC Zone di controllo di temperatura multiple in linea Video

HTCVD Forno di crescita epitaxi di carburo di silicio CVD SIC Zone di controllo di temperatura multiple

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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