Macchina di rivestimento di CVD fabbrica, comprare di buona qualità Macchina di rivestimento di CVD prodotti Dalla Cina

CVD Coating Furnace For Cutting Tools

Tensione di alimentazione: 380V 50Hz

temperatura massima: 1100°C

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Apparecchiature per il processo di rivestimento ad alta temperatura con precursori e gas di processo TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S

Precursori e gas di processo: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Substrati per rivestimento: Metallo, ceramica, vetro, ecc.

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Forno di alluminizzazione chimica a vapore 900-1050C personalizzabile con codificazione Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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AICL3 Precursori Forno di deposizione chimica a vapore per utensili da taglio a temperatura di processo 700-1050 °C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno per rivestimento CVD in ceramica Honeycomb per temperatura di processo 700-1050C e neutralizzatore di gas non elettrico opzionale

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di rivestimento CVD a rotella di sigillamento con precursori di CO e distributore di gas di secondo stadio

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Fornace a vuoto di laboratorio Cvd personalizzata Fornace di rivestimento Cvd per deposizione chimica dei vapori

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Camera di rivestimento a temperatura in lega Resistenza elettrica Forno CVD di riscaldamento per substrati metallici o ceramici di dimensioni personalizzabili

Metodo di rivestimento: Deposito di vapore chimico (CVD)

Potenza totale: Circa 40/50/60/80KW

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Camera di rivestimento in lega ad alta temperatura Macchina di rivestimento a deposizione chimica a vapore per utensili di taglio del carburo di tungsteno

Precursori e gas di processo: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Dimensioni dell'apparecchiatura di rivestimento: Personalizzabile

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Macchina di rivestimento CVD per rivestimento ad alta temperatura fino a 1000 °C

Potenza totale: Circa 40/50/60/80KW

Substrati per rivestimento: Metallo, ceramica, vetro, ecc.

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Macchina avanzata di rivestimento CVD per substrato ceramico adesione del rivestimento forte Potenza totale circa 40/50/60/80KW

Substrati per rivestimento: Metallo, ceramica, vetro, ecc.

Adesione del rivestimento: Forte

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Forno CVI a carbonio pirolitico verticale di grande dimensione carico superiore/inferiore con temperatura di lavoro massima di 1300 °C

Max.temperatura di lavoro ((°C): 1300

Uniformità di temperatura ((°C): ≤ ± 7

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Macchina di rivestimento di CVD

fornace dell'anca di sinterizzazione

Fornace di sinterizzazione di pressione del gas

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