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Macchina di rivestimento di CVD

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Forno CVI a carbonio pirolitico verticale di grande dimensione carico superiore/inferiore con temperatura di lavoro massima di 1300 °C

Max.temperatura di lavoro ((°C): 1300

Uniformità di temperatura ((°C): ≤ ± 7

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Un buon prezzo. Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo in linea Video

Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Un buon prezzo. Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C in linea Video

Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Un buon prezzo. Fornace a vuoto di laboratorio Cvd personalizzata Fornace di rivestimento Cvd per deposizione chimica dei vapori in linea Video

Fornace a vuoto di laboratorio Cvd personalizzata Fornace di rivestimento Cvd per deposizione chimica dei vapori

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Un buon prezzo. Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C in linea Video

Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Un buon prezzo. HTCVD Forno di crescita epitaxi di carburo di silicio CVD SIC Zone di controllo di temperatura multiple in linea Video

HTCVD Forno di crescita epitaxi di carburo di silicio CVD SIC Zone di controllo di temperatura multiple

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Un buon prezzo. Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 1000*1000*1500mm di spazio effettivo in linea Video

Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 1000*1000*1500mm di spazio effettivo

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Un buon prezzo. Cina CVD Furnace Manufactures, Macchina per rivestimento di carburo di silicio in linea Video

Cina CVD Furnace Manufactures, Macchina per rivestimento di carburo di silicio

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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TiC/TiN/TiCN/a-Al2O3/k-Al2O3 Rivestimenti Forno CVD con controllo della temperatura 700-1050°C

Zona di riscaldamento: 4 pezzi/5 pezzi

Temperatura massima:: 1100℃

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Un buon prezzo. Forno di deposizione di vapore a vuoto ad alta temperatura con intervallo di temperatura massima di 1100 °C in linea Video

Forno di deposizione di vapore a vuoto ad alta temperatura con intervallo di temperatura massima di 1100 °C

Reattore: 2 pezzi

Temperatura massima:: 1100℃

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RDE 530L Macchina di rivestimento CVD per la tornitura di parti in acciaio e ghisa

Reattore: 2 pezzi

Temperatura massima:: 1100℃

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MT-CVD Forno per rivestimento HT-CVD con elevata qualità del rivestimento e reattore personalizzabile

Temperatura ricoprente: 200-1050℃

Sistema di raffreddamento: 2 insiemi delle trappole condensate raffreddate ad acqua ad alto rendimento

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PLC Chemical Vapor Deposition Coating Machine con 2 set di trappole di condensato raffreddate ad acqua

Sistema di raffreddamento: 2 insiemi delle trappole condensate raffreddate ad acqua ad alto rendimento

Temperatura ricoprente: 200-1050℃

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Sistema di rivestimento a vuoto per riscaldamento elettrico con spessore del rivestimento 5-20um e peso di carico di 400 kg

Temperatura ricoprente: 200-1050℃

Sistema di raffreddamento: 2 insiemi delle trappole condensate raffreddate ad acqua ad alto rendimento

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5-20um Macchina di rivestimento a deposizione chimica a vapore con temperatura di rivestimento 200-1050°C

Tipo di rivestimento: CVD

Spessore del rivestimento: 5-20um

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RDE 530L macchina di rivestimento CVD con due camere di reazione ed elementi di riscaldamento

Camera di reazione: 2 PCS

Temperatura massima:: 1100℃

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