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HTCVD Forno di crescita epitaxi di carburo di silicio CVD SIC Zone di controllo di temperatura multiple

Macchina di rivestimento di CVD
2024-11-12
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Forno per la crescita dell'epitaxia HTCVD Silicon Carbide ((CVD SIC) Questa apparecchiatura è utilizzata per il rivestimento con carburo di silicio di materiali a base di carbonio/ceramica,in ... Guarda di più
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