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Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 100010001500mm di spazio effettivo

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di sinterizzazione a gas a pressione per ceramiche speciali con temperatura massima 2000 °C

Agente di formazione: Paraffina, PEG, gomma, C12H22O5n ecc.

Misura di temperatura: W-Re 5/26 Termocoppia+pirometro a infrarossi

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Fornace di sinterizzazione del metallo di rendimento elevato con la funzione di deparaffinazione deparaffinazione/H2 di vuoto

Nome: Fornace di sinterizzazione del metallo

Efficace spazio: Su misura

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≤ industriale su misura ±5°C di variazione di temperatura della fornace di sinterizzazione di progettazione

Nome: Fornace di sinterizzazione industriale

carburo cementato dopo la sinterizzazione: Porosità: A00-A02

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Fornace ad alta temperatura 6/8h, ≤ temporaneo trattato ±5°C del ≤ di tempo di raffreddamento di variazione della fornace di sinterizzazione

Nome: Fornace di sinterizzazione del metallo

Imballaggi particolari: Imballaggio di legno speciale di caso

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Fornace durevole di trattamento termico di vuoto con il modo di misura della termocoppia WRe5-26

Modo di misura di temperatura: Termocoppia WRe5-26

Nome: Fornace di trattamento termico di vuoto

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Fornace di sinterizzazione facile da usare di vuoto della ceramica per il carburo cementato

Uso: fornace di sinterizzazione

Garanzia: 1 anno

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Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno per rivestimento CVD in ceramica Honeycomb per temperatura di processo 700-1050C e neutralizzatore di gas non elettrico opzionale

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di depurazione industriale ad alta temperatura per materiali di grafite

Max.Temperatura di lavoro: 2400℃

Uniformità della temperatura: ≤±10℃

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Forno di alluminizzazione chimica a vapore 900-1050C personalizzabile con codificazione Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Inceri la fornace del HIP di sinterizzazione del tasso 98% della raccolta per acciaio inossidabile/precisione ceramici

Nome: Fornace dell'anca di sinterizzazione

Tasso di perdita di vuoto: 1Pa/h, 2Pa/h, 3Pa/h

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Pressione di esercizio massima orizzontale della fornace di sinterizzazione di pressione del gas di progettazione 60 Antivari

Nome: Fornace di sinterizzazione di pressione del gas

Pressione di esercizio massima (barra): 60

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Fornace ad alta temperatura di vuoto

Fornace di trattamento termico di vuoto

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Fornace di alto vuoto

Accessori della fornace di sinterizzazione

Forno a carburo del silicio

Macchina di rivestimento di CVD

Fornace di vuoto di grande capacità per le specifiche RDE-GWL-5518 di trattamento termico

Fornace industriale orizzontale di vuoto con gli elementi riscaldanti cilindrici della struttura

Tasso orizzontale automatizzato 1/2/3Pa/H di perdita di vuoto della fornace di vuoto di controllo

Il telefono ha controllato il tasso ad alta temperatura 3Pa/H di perdita di vuoto della fornace di vuoto

Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 100010001500mm di spazio effettivo

Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato

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