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Forno di sinterizzazione a gas a pressione per materiali in lega di acciaio inossidabile in acciaio inossidabile a base di rame

Temperatura di funzionamento: 1200-1800℃

Pressione del gas: 1-10MPa

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Forno per rivestimento CVD a carburo di silicio per sensibilità al grafite o per anello di incisione

Imballaggi particolari: casse in legno

Tempi di consegna: 5-6 mesi

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Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Controllo della temperatura di precisione Trattamento termico sotto vuoto Forno di brasatura Max. Temperatura di lavoro 1200C Uniformità della temperatura ≤±3

Max.temperatura di lavoro ((°C): 1200

Uniformità di temperatura ((°C): ≤ ± 3

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di sinterizzazione a gas ad alta efficienza energetica per un'atmosfera a temperatura uniforme e un raffreddamento rapido

Tempo di raffreddamento: ≤1h/4h/5h/6h/8h ((Forno vuoto, raffreddamento da sinterizzazione Temperatura 1450-100°C) Temperatura

Dimensione: Personalizzato

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Fornace di pressione di vuoto di temperatura massima 1600℃, tasso 98% della raccolta della cera della fornace del HIP di sinterizzazione

Nome: fornace di pressione di vuoto

tasso della Cera-raccolta: 98%

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Fornace di sinterizzazione facile da usare di vuoto della ceramica per il carburo cementato

Uso: fornace di sinterizzazione

Garanzia: 1 anno

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Forno di deposizione di vapore a vuoto ad alta temperatura con intervallo di temperatura massima di 1100 °C

Reattore: 2 pezzi

Temperatura massima:: 1100℃

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SIC carburo di silicio forno di trattamento termico ad alta temperatura per sinterizzazione a vuoto in atmosfera protettiva

Colore della vernice: Grigio, blu, bianco, nero.

Durata di vita della conchiglia del forno: 20 anni

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Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 100010001500mm di spazio effettivo

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno per rivestimento CVD in ceramica Honeycomb per temperatura di processo 700-1050C e neutralizzatore di gas non elettrico opzionale

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di depurazione industriale ad alta temperatura per materiali di grafite

Max.Temperatura di lavoro: 2400℃

Uniformità della temperatura: ≤±10℃

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Forno di sinterizzazione a gas a pressione per ceramiche speciali con temperatura massima 2000 °C

Agente di formazione: Paraffina, PEG, gomma, C12H22O5n ecc.

Misura di temperatura: W-Re 5/26 Termocoppia+pirometro a infrarossi

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Fornace di alto vuoto

Accessori della fornace di sinterizzazione

Forno a carburo del silicio

Macchina di rivestimento di CVD

Applicazione di tempera della fornace di vuoto del molibdeno del metallo ampia con la prestazione splendida

Fornaci di trattamento termico del carico massimo 1800Kg, fornace economizzatrice d'energia di alto vuoto

Fornace di vuoto di grande capacità per le specifiche RDE-GWL-5518 di trattamento termico

Fornace industriale orizzontale di vuoto con gli elementi riscaldanti cilindrici della struttura

Forno di sinterizzazione a gas a pressione per materiali in lega di acciaio inossidabile in acciaio inossidabile a base di rame

Forno per rivestimento CVD a carburo di silicio per sensibilità al grafite o per anello di incisione

Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Controllo della temperatura di precisione Trattamento termico sotto vuoto Forno di brasatura Max. Temperatura di lavoro 1200C Uniformità della temperatura ≤±3

Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato

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