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Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 1000*1000*1500mm di spazio effettivo

Macchina di rivestimento di CVD
2024-11-12
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Forno per la crescita dell'epitaxia HTCVD Silicon Carbide ((CVD SIC) Questa apparecchiatura è utilizzata per il rivestimento con carburo di silicio di materiali a base di carbonio/ceramica,in ... Guarda di più
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Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 1000*1000*1500mm di spazio effettivo
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