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Un buon prezzo. Standard industriali Forno resistente al vuoto ad alta efficienza energetica e requisiti individuali personalizzati in linea Video

Standard industriali Forno resistente al vuoto ad alta efficienza energetica e requisiti individuali personalizzati

Tempo di raffreddamento: ≤1h/4h/5h/6h/8h ((Forno vuoto, raffreddamento da sinterizzazione Temperatura 1450-100°C) Temperatura

Temperatura massima: 2000℃

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Un buon prezzo. Camera di rivestimento in lega ad alta temperatura Macchina di rivestimento a deposizione chimica a vapore per utensili di taglio del carburo di tungsteno in linea Video

Camera di rivestimento in lega ad alta temperatura Macchina di rivestimento a deposizione chimica a vapore per utensili di taglio del carburo di tungsteno

Precursori e gas di processo: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Dimensioni dell'apparecchiatura di rivestimento: Personalizzabile

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Un buon prezzo. Camera di rivestimento a temperatura in lega Resistenza elettrica Forno CVD di riscaldamento per substrati metallici o ceramici di dimensioni personalizzabili in linea Video

Camera di rivestimento a temperatura in lega Resistenza elettrica Forno CVD di riscaldamento per substrati metallici o ceramici di dimensioni personalizzabili

Metodo di rivestimento: Deposito di vapore chimico (CVD)

Potenza totale: Circa 40/50/60/80KW

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Apparecchiature per il processo di rivestimento ad alta temperatura con precursori e gas di processo TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S

Precursori e gas di processo: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Substrati per rivestimento: Metallo, ceramica, vetro, ecc.

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Un buon prezzo. Macchina di rivestimento CVD per rivestimento ad alta temperatura fino a 1000 °C in linea Video

Macchina di rivestimento CVD per rivestimento ad alta temperatura fino a 1000 °C

Potenza totale: Circa 40/50/60/80KW

Substrati per rivestimento: Metallo, ceramica, vetro, ecc.

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Un buon prezzo. Macchina avanzata di rivestimento CVD per substrato ceramico adesione del rivestimento forte Potenza totale circa 40/50/60/80KW in linea Video

Macchina avanzata di rivestimento CVD per substrato ceramico adesione del rivestimento forte Potenza totale circa 40/50/60/80KW

Substrati per rivestimento: Metallo, ceramica, vetro, ecc.

Adesione del rivestimento: Forte

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Produzione dei cermet come i materiali da otturazione dentari con la fornace di sinterizzazione del metallo di RDE

Imballaggi particolari: Scatola di legno speciale

Tempi di consegna: 5-8 mesi

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Fornace di sinterizzazione di trattamento termico di RDE con il peso di caricamento 500-1500kg

Uso: Fornace di sinterizzazione, fornace di trattamento termico, fornace di vuoto

Garanzia: 12 mesi

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Forno per rivestimento CVD in ceramica Honeycomb per temperatura di processo 700-1050C e neutralizzatore di gas non elettrico opzionale

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di rivestimento CVD a rotella di sigillamento con precursori di CO e distributore di gas di secondo stadio

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Fornace a vuoto di laboratorio Cvd personalizzata Fornace di rivestimento Cvd per deposizione chimica dei vapori

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Un buon prezzo. Forno di sinterizzazione ceramica al nitruro di silicio a 60 bar Pressione e spazio di lavoro personalizzabile in linea Video

Forno di sinterizzazione ceramica al nitruro di silicio a 60 bar Pressione e spazio di lavoro personalizzabile

Spazio di lavoro: 400*400*1200mm, oppure personalizzati in base alle esigenze del cliente

Pressione di lavoro: 60 Antivari

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