Tempo di raffreddamento: ≤1h/4h/5h/6h/8h ((Forno vuoto, raffreddamento da sinterizzazione Temperatura 1450-100°C) Temperatura
Temperatura massima: 2000℃
Precursori e gas di processo: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S
Dimensioni dell'apparecchiatura di rivestimento: Personalizzabile
Metodo di rivestimento: Deposito di vapore chimico (CVD)
Potenza totale: Circa 40/50/60/80KW
Precursori e gas di processo: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S
Substrati per rivestimento: Metallo, ceramica, vetro, ecc.
Potenza totale: Circa 40/50/60/80KW
Substrati per rivestimento: Metallo, ceramica, vetro, ecc.
Substrati per rivestimento: Metallo, ceramica, vetro, ecc.
Adesione del rivestimento: Forte
Imballaggi particolari: Scatola di legno speciale
Tempi di consegna: 5-8 mesi
Uso: Fornace di sinterizzazione, fornace di trattamento termico, fornace di vuoto
Garanzia: 12 mesi
Temperatura di processo (°C): 700-1050
Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Temperatura di processo (°C): 700-1050
Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
Temperatura di processo (°C): 700-1050
Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Temperatura di processo (°C): 700-1050
Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Temperatura di processo (°C): 700-1050
Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
Temperatura di processo (°C): 700-1050
Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
Temperatura di processo (°C): 700-1050
Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Spazio di lavoro: 400*400*1200mm, oppure personalizzati in base alle esigenze del cliente
Pressione di lavoro: 60 Antivari
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