Fornace di sinterizzazione di vuoto fabbrica, comprare un buon prezzo MIM fornace di sinterizzazione prodotti

Forno di sinterizzazione unidirezionale o bidirezionale ad alta temperatura e pressione per la lavorazione ad alta densità dei materiali

Temperatura massima di lavoro (℃）: 2100

Uniformità di temperatura ((°C): ≤±5

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Forno di sinterizzazione ad alta temperatura a pressione di vuoto per ceramica elettronica/metallurgia a polvere/materiali magnetici

Temperatura massima di lavoro (℃）: 2100

Uniformità di temperatura ((°C): ≤±5

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di alluminizzazione chimica a vapore 900-1050C personalizzabile con codificazione Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Fornace a vuoto di laboratorio Cvd personalizzata Fornace di rivestimento Cvd per deposizione chimica dei vapori

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Apparecchiature per il processo di rivestimento ad alta temperatura con precursori e gas di processo TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S

Precursori e gas di processo: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Substrati per rivestimento: Metallo, ceramica, vetro, ecc.

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AICL3 Precursori Forno di deposizione chimica a vapore per utensili da taglio a temperatura di processo 700-1050 °C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di rivestimento CVD a rotella di sigillamento con precursori di CO e distributore di gas di secondo stadio

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno per rivestimento CVD in ceramica Honeycomb per temperatura di processo 700-1050C e neutralizzatore di gas non elettrico opzionale

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Sinterizzazione a pressa a caldo sottovuoto con elettrodo elettrostatico tipo JR (ceramica di nitruro di alluminio)

Temperatura massima di lavoro (℃）: 2100

Uniformità di temperatura ((°C): ≤±5

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Ottieni utensili in metallo duro cementato superiori con i nostri forni Sinter HIP avanzati

Max. Temperatura di lavoro: 1600 ℃

Max.Working Pressure: 1,2,6,10,20MPA

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Forno di trattamento termico a vuoto con riscaldamento a resistenza e spegnimento a pressione con capacità di carico nominale di 50 kg

Gas Quenching: Available

Rated Loading Capacity: 50

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Forno a vuoto tipo forno di sinterizzazione a pressione in colore grigio per la sinterizzazione avanzata

Vita di servizio: 20 anni/6000 cicli di forno

Colore della vernice: Nero, Blu, Grigio, Bianco, ecc.

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Zhuzhou Ruideer Metallurgy Equipment Manufacturing Co.,Ltd prodotti in linea

fornace dell'anca di sinterizzazione

Fornace di sinterizzazione di pressione del gas