high temperature coating process equipment (47) Produttore online
Temperatura di processo (°C): 700-1050
Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Temperatura di processo (°C): 700-1050
Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Temperatura di processo (°C): 700-1050
Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
Temperatura di processo (°C): 700-1050
Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Process temperature((℃): 700-1050
Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Imballaggi particolari: casse in legno
Tempi di consegna: 5-6 mesi
Reattore: 2 pezzi
Temperatura massima:: 1100℃
Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500
Potenza di riscaldamento ((KVA): 300
Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500
Potenza di riscaldamento ((KVA): 300
Workingspace: 12-1000L
Max.pressione di lavoroMax.pressione di lavoro ((MPA): 1、2、6、10、20
Nome: Fornace industriale di vuoto
Specifiche: RDE-GWL-5518
Camera di reazione: 2 pc
Temperatura massima:: 1100℃
Camera di reazione: 2 pc
Temperatura massima:: 1100℃
Metodo di rivestimento: Deposito di vapore chimico (CVD)
Potenza totale: Circa 40/50/60/80KW
Temperatura di processo (°C): 700-1050
Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
Temperatura di processo (°C): 700-1050
Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
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