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Un buon prezzo. Apparecchiature per il processo di rivestimento ad alta temperatura con precursori e gas di processo TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S in linea Video

Apparecchiature per il processo di rivestimento ad alta temperatura con precursori e gas di processo TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S

Precursori e gas di processo: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Substrati per rivestimento: Metallo, ceramica, vetro, ecc.

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Un buon prezzo. Macchina di rivestimento CVD per rivestimento ad alta temperatura fino a 1000 °C in linea Video

Macchina di rivestimento CVD per rivestimento ad alta temperatura fino a 1000 °C

Potenza totale: Circa 40/50/60/80KW

Substrati per rivestimento: Metallo, ceramica, vetro, ecc.

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Un buon prezzo. Fornace di sinterizzazione a pressione di gas ad alta temperatura in carburo di tungsteno di fornitore cinese 1-20MPA in linea Video

Fornace di sinterizzazione a pressione di gas ad alta temperatura in carburo di tungsteno di fornitore cinese 1-20MPA

Imballaggi particolari: Custodie in legno

Tempi di consegna: 5-6 mesi

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Un buon prezzo. Forno di deposizione di vapore a vuoto ad alta temperatura con intervallo di temperatura massima di 1100 °C in linea Video

Forno di deposizione di vapore a vuoto ad alta temperatura con intervallo di temperatura massima di 1100 °C

Reattore: 2 pezzi

Temperatura massima:: 1100℃

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Fornace ad alta temperatura professionale di vuoto per non metal-ceramico/sic il carburo

Nome: Fornace di sinterizzazione di vuoto ad alta temperatura & alto

Specifiche: RDE-GWL-5518

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Un buon prezzo. Macchina avanzata di rivestimento CVD per substrato ceramico adesione del rivestimento forte Potenza totale circa 40/50/60/80KW in linea Video

Macchina avanzata di rivestimento CVD per substrato ceramico adesione del rivestimento forte Potenza totale circa 40/50/60/80KW

Substrati per rivestimento: Metallo, ceramica, vetro, ecc.

Adesione del rivestimento: Forte

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Sistema di rivestimento a vuoto per riscaldamento elettrico con spessore del rivestimento 5-20um e peso di carico di 400 kg

Temperatura ricoprente: 200-1050℃

Sistema di raffreddamento: 2 insiemi delle trappole condensate raffreddate ad acqua ad alto rendimento

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MT-CVD Forno per rivestimento HT-CVD con elevata qualità del rivestimento e reattore personalizzabile

Temperatura ricoprente: 200-1050℃

Sistema di raffreddamento: 2 insiemi delle trappole condensate raffreddate ad acqua ad alto rendimento

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Un buon prezzo. Camera di rivestimento in lega ad alta temperatura Macchina di rivestimento a deposizione chimica a vapore per utensili di taglio del carburo di tungsteno in linea Video

Camera di rivestimento in lega ad alta temperatura Macchina di rivestimento a deposizione chimica a vapore per utensili di taglio del carburo di tungsteno

Precursori e gas di processo: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Dimensioni dell'apparecchiatura di rivestimento: Personalizzabile

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Macchine di rivestimento CVD elettrico per il carburo di titanio (TiC) e il nitruro di titanio (TiN)

Sistema di controllo: PLC

Fornitore di alimentazione: AC380V/50HZ

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PLC Chemical Vapor Deposition Coating Machine con 2 set di trappole di condensato raffreddate ad acqua

Sistema di raffreddamento: 2 insiemi delle trappole condensate raffreddate ad acqua ad alto rendimento

Temperatura ricoprente: 200-1050℃

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5-20um Macchina di rivestimento a deposizione chimica a vapore con temperatura di rivestimento 200-1050°C

Tipo di rivestimento: CVD

Spessore del rivestimento: 5-20um

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Macchina di rivestimento di superficie elettrica per riscaldamento con Bronkhost MFC per un controllo preciso del flusso

Fornitore di alimentazione: AC380V/50HZ

Materiale di rivestimento: Carburo di titanio (TiC); nitruro di titanio (TiN); carbonitruro di titanio (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

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0.1-1.0MPa Pressione di rivestimento Macchina di rivestimento CVD 200-1050°C Temperatura di rivestimento

Materiale di rivestimento: Carburo di titanio (TiC); nitruro di titanio (TiN); carbonitruro di titanio (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

Tipo di rivestimento: CVD

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Macchina di rivestimento a vuoto CVD AC380V/50Hz Fornitura di alimentazione ±2mbar Uniformità della pressione di rivestimento

Spessore del rivestimento: 5-20um

Materiale di rivestimento: Carburo di titanio (TiC); nitruro di titanio (TiN); carbonitruro di titanio (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

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Un buon prezzo. Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo in linea Video

Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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