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Un buon prezzo. Forno di sinterizzazione a gas ad alta efficienza energetica per un'atmosfera a temperatura uniforme e un raffreddamento rapido in linea Video

Forno di sinterizzazione a gas ad alta efficienza energetica per un'atmosfera a temperatura uniforme e un raffreddamento rapido

Tempo di raffreddamento: ≤1h/4h/5h/6h/8h ((Forno vuoto, raffreddamento da sinterizzazione Temperatura 1450-100°C) Temperatura

Dimensione: Personalizzato

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Pieno sinterizzi automaticamente camera della fornace del HIP la singola/riscaldamento orizzontale/periodico

Nome: Fornace dell'anca di sinterizzazione

Pressione livellata:: 1MPa/6MPa/10MPa

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Il gas economizzatore d'energia dell'input della fornace del HIP di sinterizzazione lo ha permesso l'AR/N2/ISO9001 approvato

Nome: Fornace dell'anca di sinterizzazione

Max.Temperature: 1600℃

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Fornace su misura del HIP di sinterizzazione di progettazione per il carburo cementato/la precisione ceramici

Nome: Fornace dell'anca di sinterizzazione

Peso della fornace: ≈20ton/≈24ton/≈34ton

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Fornace rapida di trattamento termico di vuoto di velocità di raffreddamento piccola area di occupazione

Nome: Fornace di trattamento termico di vuoto

Vantaggi: progetti il requisito speciale del cliente dei prodotti

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Facile mantenga ed estesa fornace del HIP di sinterizzazione di uso/pressa di stampaggio isostatica calda

Uso: fornace di sinterizzazione

Garanzia: 12 mesi

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500kg vuoto del carico 1MPa che sinterizza fornace pressurizzata per il carburo cementato

Tempo di raffreddamento: almeno 6 ore

Pressione: 1MPa

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Pressione parziale di perdita di rilevazione di Debinding di sinterizzazione di vuoto automatico della fornace

Nome di prodotto: Vuoto che sinterizza Debinding/sinterizzazione sotto pressione parziale automatica di rilevazione di

Spazio di lavoro valido: 500mm×500mm×1800mm (W*H*L)

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Fornace di sinterizzazione personalizzabile di pressione del gas per i materiali duri di PM dei cermet dei metalli

Colore: bianco, grigio, nero, blu

Potenza nominale: 120KVA, 150KVA, 480KVA

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Un buon prezzo. Forno di deposizione di vapore a vuoto ad alta temperatura con intervallo di temperatura massima di 1100 °C in linea Video

Forno di deposizione di vapore a vuoto ad alta temperatura con intervallo di temperatura massima di 1100 °C

Reattore: 2 pezzi

Temperatura massima:: 1100℃

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Forno per rivestimento CVD a carburo di silicio per sensibilità al grafite o per anello di incisione

Imballaggi particolari: casse in legno

Tempi di consegna: 5-6 mesi

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Un buon prezzo. Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 1000*1000*1500mm di spazio effettivo in linea Video

Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 1000*1000*1500mm di spazio effettivo

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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