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Fornace di sinterizzazione ad alta temperatura di vuoto con la funzione di deparaffinazione

struttura: singola camera, tipo horizental

Dimensione: 500*500*1800

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Forno di alluminizzazione chimica a vapore 900-1050C personalizzabile con codificazione Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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MT-CVD Forno per rivestimento HT-CVD con elevata qualità del rivestimento e reattore personalizzabile

Temperatura ricoprente: 200-1050℃

Sistema di raffreddamento: 2 insiemi delle trappole condensate raffreddate ad acqua ad alto rendimento

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Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Fornace a vuoto di laboratorio Cvd personalizzata Fornace di rivestimento Cvd per deposizione chimica dei vapori

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Fabbrica cinese Certificato ISO CE Forno senza pressione a vuoto con temperatura di lavoro massima 2500C Temperatura

Max.Temperatura di lavoro: 2500℃

Uniformità della temperatura: ≤±5℃

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Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 100010001500mm di spazio effettivo

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Forno di sinterizzazione per la reazione del carburo di silicio di precisione 1800 °C con uniformità di temperatura ≤ ± 5 °C

Max.Temperatura di lavoro: 1800℃

Uniformità della temperatura: ≤±5℃

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Fabbricante di forni di sinterizzazione a pressione a gas ad alta temperatura per il carburo/nitruro di silicio

Imballaggi particolari: casse in legno

Tempi di consegna: 4-5 mesi

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Alto forno a carburo del silicio di automazione, potere calorifico industriale della fornace di vuoto 320 KVA

nome: Fornace di alto vuoto

Max.temperature: 1800℃

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Fornace di compressione di vuoto di AC380V/50Hz con il peso di carico massimo 2000kg

Dimensione della camera: Su misura

Nome di prodotto: Fornace di sinterizzazione di pressione del gas

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5-20um Macchina di rivestimento a deposizione chimica a vapore con temperatura di rivestimento 200-1050°C

Tipo di rivestimento: CVD

Spessore del rivestimento: 5-20um

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Forno di sinterizzazione a vuoto a pressione periodica di 1 MPA

Spazio utilizzabile: 300*300*1000mm; 400*400*1200mm; 500*500*1800mm

Zona di riscaldamento: Zone 2/3

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Consumo di energia basso della fornace ad alta temperatura di vuoto di energia di risparmio piccola area di occupazione

Nome: Fornace ad alta temperatura di vuoto

Vantaggi: energia di risparmio e environment.ect proteggente

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Accessori della fornace di sinterizzazione

Forno a carburo del silicio

Macchina di rivestimento di CVD

Carico massimo 1800Kg di sinterizzazione della fornace del controllo della temperatura di zona ceramica professionale di modo 3

Lo SpA intelligente automatico della fornace del HIP di sinterizzazione di IPC ha controllato su misura

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