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Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Fornace a vuoto di laboratorio Cvd personalizzata Fornace di rivestimento Cvd per deposizione chimica dei vapori

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Fabbrica cinese Certificato ISO CE Forno senza pressione a vuoto con temperatura di lavoro massima 2500C Temperatura

Max.Temperatura di lavoro: 2500℃

Uniformità della temperatura: ≤±5℃

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Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 100010001500mm di spazio effettivo

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Forno di sinterizzazione per la reazione del carburo di silicio di precisione 1800 °C con uniformità di temperatura ≤ ± 5 °C

Max.Temperatura di lavoro: 1800℃

Uniformità della temperatura: ≤±5℃

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Fabbricante di forni di sinterizzazione a pressione a gas ad alta temperatura per il carburo/nitruro di silicio

Imballaggi particolari: casse in legno

Tempi di consegna: 4-5 mesi

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Alto forno a carburo del silicio di automazione, potere calorifico industriale della fornace di vuoto 320 KVA

nome: Fornace di alto vuoto

Max.temperature: 1800℃

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Fornace di compressione di vuoto di AC380V/50Hz con il peso di carico massimo 2000kg

Dimensione della camera: Su misura

Nome di prodotto: Fornace di sinterizzazione di pressione del gas

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5-20um Macchina di rivestimento a deposizione chimica a vapore con temperatura di rivestimento 200-1050°C

Tipo di rivestimento: CVD

Spessore del rivestimento: 5-20um

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Forno di sinterizzazione a vuoto a pressione periodica di 1 MPA

Spazio utilizzabile: 300*300*1000mm; 400*400*1200mm; 500*500*1800mm

Zona di riscaldamento: Zone 2/3

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3 fornaci ad alta temperatura di vuoto del controllo della temperatura 320KVA di zona

struttura: singola camera, tipo horizental

Dimensione: 400*400*1600

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Fornace di sinterizzazione ad alta temperatura di vuoto 320KVA per sic il carburo

struttura: singola camera, tipo horizental

Dimensione: 500mm*500mm*1800mm

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Consumo di energia basso della fornace ad alta temperatura di vuoto di energia di risparmio piccola area di occupazione

Nome: Fornace ad alta temperatura di vuoto

Vantaggi: energia di risparmio e environment.ect proteggente

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Il gas dell'input della fornace di trattamento termico di vuoto della stabilità dell'output di forza motrice ha permesso H2/CH4/CO2

nome: fornace di trattamento termico di vuoto

Modo di misura di temperatura: Termocoppia WRe5-26

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Accessori della fornace di sinterizzazione

Forno a carburo del silicio

Macchina di rivestimento di CVD

Carico massimo 1800Kg di sinterizzazione della fornace del controllo della temperatura di zona ceramica professionale di modo 3

Fornace di trattamento termico di vuoto di alta efficienza, processo caldo affidabile di pressatura isostatica

Lo SpA intelligente automatico della fornace del HIP di sinterizzazione di IPC ha controllato su misura

Fornace industriale durevole di vuoto con il modo di misura di temperatura della termocoppia WRe5-26

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