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Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Alto periodo di raffreddamento automatico della fornace di sinterizzazione MIM 300-420min/480min

Nome: Forno di sinterizzazione MIM

Colore: Bianco

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Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 100010001500mm di spazio effettivo

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Quantità materiale proteggente 32/42 pc della fornace di sinterizzazione dell'ambiente MIM

Nome: Forno di sinterizzazione MIM

Temperatura di lavoro massima: 1550°C

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Forno di alluminizzazione chimica a vapore 900-1050C personalizzabile con codificazione Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Camera di rivestimento a temperatura in lega Resistenza elettrica Forno CVD di riscaldamento per substrati metallici o ceramici di dimensioni personalizzabili

Metodo di rivestimento: Deposito di vapore chimico (CVD)

Potenza totale: Circa 40/50/60/80KW

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Fornace automatica piena del HIP di sinterizzazione per il riscaldamento resistente delle metallurgie delle polveri

Specificazione: Può essere personalizzato secondo i requisiti di cliente

Campo di applicazione: metallurgie delle polveri

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Fornace di sinterizzazione integrata controllo di vuoto di PID con la struttura di riscaldamento periodica

Efficace zona di lavoro: 200*200*400

Weignt di Max.loading: 50 kg

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Fornace di sinterizzazione industriale di vuoto della lega di controllo del PC

Tempo di impiego: 20 anni

Tempi di funzionamento: 300 volte/anno

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Fornace di sinterizzazione ad alta temperatura di vuoto della lega con rilevazione di perdita automatica

Tempo di impiego: 20 anni

Tempi di funzionamento: 300 volte/anno

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fornace calda di pressatura isostatica di vuoto 60bar con l'elemento riscaldante della grafite

Tempo di impiego: 20 anni

Potere calorifico: 320KVA

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Singola fornace di sinterizzazione di vuoto di zona per deparaffinazione dura della lega

Tempo di impiego: 20 anni

Tempi di funzionamento: 300 volte/anno

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Vuoto integrato Debinding e fornace di sinterizzazione 380KVA

Tempo di impiego: 20 anni

Tempi di funzionamento: 300 volte/anno

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fornace di controllo dinamica in tempo reale del HIP di sinterizzazione di raffreddamento a vuoto

Tempi di funzionamento: 300 volte/anno

Tempo di impiego: 20 anni

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Fornace di sinterizzazione di Debinding di vuoto di conservazione di calore 420KVA

Tempo di impiego: 20 anni

Tempi di funzionamento: 300 volte/anno

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Fornace industriale orizzontale di vuoto con gli elementi riscaldanti cilindrici della struttura

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