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Zona di modo 2 del controllo della temperatura della fornace di sinterizzazione della struttura compatta MIM

Nome: Forno di sinterizzazione MIM

Modo di misura di temperatura:: Termocoppia WRe5-26

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Fornace di sinterizzazione affidabile di pressione del gas con i sistemi su misura

Uso: Fornace di trattamento termico, fornace di sinterizzazione, ricottura del metallo

Peso: 2~20T

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MT-CVD Forno per rivestimento HT-CVD con elevata qualità del rivestimento e reattore personalizzabile

Temperatura ricoprente: 200-1050℃

Sistema di raffreddamento: 2 insiemi delle trappole condensate raffreddate ad acqua ad alto rendimento

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6MPA Forno di sinterizzazione a pressione di devaccatura per cermeti Non cermeti Precison Semiconduttore ceramico nitruro di silicio

Temperatura: 1550°C-2200°C

Max. carico di carica: 500 kg/1200 kg/1500 kg/2500 kg

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Fornace di sinterizzazione di alta efficienza MIM per i pezzi di precisione dell'acciaio inossidabile

Colore: In bianco e nero/grigio chiaro e blu-chiaro

Nome: MIM Debinding Sintering Furnace

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Il gas economizzatore d'energia dell'input della fornace del HIP di sinterizzazione lo ha permesso l'AR/N2/ISO9001 approvato

Nome: Fornace dell'anca di sinterizzazione

Max.Temperature: 1600℃

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Atmosfera su ordine della fornace di sinterizzazione di pressione del gas multi controllata

Tipi: Fornace di sinterizzazione di pressione del gas

Metodo di riscaldamento: Riscaldamento resistente

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Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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500kg vuoto del carico 1MPa che sinterizza fornace pressurizzata per il carburo cementato

Tempo di raffreddamento: almeno 6 ore

Pressione: 1MPa

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Forno di deposizione di vapore a vuoto ad alta temperatura con intervallo di temperatura massima di 1100 °C

Reattore: 2 pezzi

Temperatura massima:: 1100℃

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Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Alto periodo di raffreddamento automatico della fornace di sinterizzazione MIM 300-420min/480min

Nome: Forno di sinterizzazione MIM

Colore: Bianco

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Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 100010001500mm di spazio effettivo

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Quantità materiale proteggente 32/42 pc della fornace di sinterizzazione dell'ambiente MIM

Nome: Forno di sinterizzazione MIM

Temperatura di lavoro massima: 1550°C

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Forno di alluminizzazione chimica a vapore 900-1050C personalizzabile con codificazione Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Fornace di alto vuoto

Accessori della fornace di sinterizzazione

Forno a carburo del silicio

Macchina di rivestimento di CVD

Fornace di sinterizzazione personalizzabile dell'acciaio inossidabile/fornace orizzontale di vuoto

Fornace di alto vuoto di buona prestazione fornita di multi pezzi di ricambio

Fornace di alto vuoto del carburo di silicio con la struttura doppia brevettata dello sbocco di deparaffinazione

Alta fornace industriale automatica di vuoto per acciaio inossidabile/lega ad alta densità

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