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singola fornace di sinterizzazione di Debinding di vuoto della camera del carico 500kg per acciaio inossidabile

Tempo di impiego: 20 anni

Verniciatura: nero, bianco, grigio, blu, verde

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Fornace integrata di deparaffinazione e di sinterizzazione di vuoto per i prodotti della lama del carburo

Weignt del corpo della fornace: circa 5 t

Efficace zona di lavoro: 400*400*1500mm

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Fornace di sinterizzazione periodica del metallo del riscaldamento di singolo orizzontale della camera

Tempo di impiego: 20 anni

Tempi di funzionamento: 300 volte/anno

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Forno a resistenza elettrico di vuoto ad alta temperatura con il raffreddamento rapido

Materiale: acciaio al carbonio/inossidabile

Colore: bianco, grigio, nero, blu

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Singolo prodotto di acciaio inossidabile di MIM Vacuum Sintering Furnace For della camera

Tempo di impiego: 20 anni

Tempi di funzionamento: 300 volte/anno

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Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 100010001500mm di spazio effettivo

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno avanzato di brasatura a vuoto per il legame AMB di substrati ceramici a 1200 °C

Max.temperatura di lavoro ((°C): 1200

Uniformità di temperatura ((°C): ≤ ± 3

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Forno di sinterizzazione per la reazione del carburo di silicio di precisione 1800 °C con uniformità di temperatura ≤ ± 5 °C

Max.Temperatura di lavoro: 1800℃

Uniformità della temperatura: ≤±5℃

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Forno per rivestimento CVD a carburo di silicio per sensibilità al grafite o per anello di incisione

Imballaggi particolari: casse in legno

Tempi di consegna: 5-6 mesi

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Cina CVD Furnace Manufactures, Macchina per rivestimento di carburo di silicio

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di depurazione industriale ad alta temperatura per materiali di grafite

Max.Temperatura di lavoro: 2400℃

Uniformità della temperatura: ≤±10℃

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Forno di brasatura ad altissimo vuoto e ad alta temperatura per acciaio o rame a 800-1300°C

Max.temperatura di lavoro ((°C): 1300

Temperature uniformity(℃）: ≤±3

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Fornace ad alta temperatura di vuoto di controllo dello SpA di 320KVA Siemens

struttura: singola camera, tipo horizental

Dimensione: Su misura

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Funzionale di orizzontale della fornace di sinterizzazione di Debinding di vuoto multi

Fornace trattata della grafite di sinterizzazione con la gamma di temperature di riscaldamento di zone 1-4 0-1700℃

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Singolo prodotto di acciaio inossidabile di MIM Vacuum Sintering Furnace For della camera

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Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

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Forno di sinterizzazione per la reazione del carburo di silicio di precisione 1800 °C con uniformità di temperatura ≤ ± 5 °C

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Cina CVD Furnace Manufactures, Macchina per rivestimento di carburo di silicio

Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

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