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Fornace 10 Antivari 60bar 100bar dell'anca di sinterizzazione di deparaffinazione pressione positiva/negativa

Garanzia: 1 anno

Peso: 2T-35T

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RDE Macchina di rivestimento con carburo di silicio Forno di deposizione chimica a vapore CVD

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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HTCVD Forno di crescita epitaxi di carburo di silicio CVD SIC Zone di controllo di temperatura multiple

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Forno di sinterizzazione ceramica al nitruro di silicio a 60 bar Pressione e spazio di lavoro personalizzabile

Spazio di lavoro: 400*400*1200mm, oppure personalizzati in base alle esigenze del cliente

Pressione di lavoro: 60 Antivari

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di rivestimento CVD a rotella di sigillamento con precursori di CO e distributore di gas di secondo stadio

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno per rivestimento CVD in ceramica Honeycomb per temperatura di processo 700-1050C e neutralizzatore di gas non elettrico opzionale

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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1200-2500°C Temperatura di progettazione Forno a vuoto ad alta temperatura con foro di osservazione

Dimensione della camera: Personalizzabile ((200*200*400/400*400*1200/500*500*1800mm)

Il vuoto finale: 3,67*10-3 Pa

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Dimensione e configurazione su misura fornace su misura di trattamento termico di vuoto

Dimensione: Dimensione su misura

Struttura: singola camera, tipo horizental

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Fornace di sinterizzazione di vuoto del metallo 280KVA con la struttura di riscaldamento periodica

materiale dell'elemento riscaldante: Lega del molibdeno-lantanio

Struttura: struttura orizzontale della due-porta

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Fornace di sinterizzazione ceramica di rendimento elevato 160KVA-480KVA

Materiale: acciaio al carbonio/inossidabile

Colore: bianco, grigio, nero, blu, verde

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Fornaci in atmosfera controllata di vuoto ad alta temperatura con la zona calda

Coperture della fornace: Carbonio/acciaio inossidabile

Colore: bianco, grigio, nero, blu

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Forno di sinterizzazione del carburo di silicio RDE Ottenimento di eccellenza di temperatura per la devascazione della gomma e altri a 0,5-1 bar Pressione

Temperatura: 2200℃

Dimensione della camera: 300*300*600mm/500*500*1200mm/500*500*1800mm/cutomize

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AICL3 Precursori Forno di deposizione chimica a vapore per utensili da taglio a temperatura di processo 700-1050 °C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Fornace di sinterizzazione sensibile di vuoto della lega del carbonio di controllo dello SpA

Tempo di impiego: 20 anni

Materiale delle coperture della fornace: Acciaio al carbonio

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Fornace di sinterizzazione fatta molibdeno di vuoto per la lega di nichel del tungsteno

Tempo di impiego: 20 anni

Tempi di funzionamento: 300 volte/anno

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Fornace di alto vuoto

Accessori della fornace di sinterizzazione

Forno a carburo del silicio

Macchina di rivestimento di CVD

Fornace trattata della grafite di sinterizzazione con la gamma di temperature di riscaldamento di zone 1-4 0-1700℃

Fornace 380V/50Hz del HIP di sinterizzazione di acciaio inossidabile per industria

1-4 Zone di riscaldamento Forno HIP sinterizzato con pompa di riserva e pompa di radici per vuoto

Forno di sinterizzazione a vuoto a pressione periodica di 1 MPA

Fornace 10 Antivari 60bar 100bar dell'anca di sinterizzazione di deparaffinazione pressione positiva/negativa

RDE Macchina di rivestimento con carburo di silicio Forno di deposizione chimica a vapore CVD

HTCVD Forno di crescita epitaxi di carburo di silicio CVD SIC Zone di controllo di temperatura multiple

Forno di sinterizzazione ceramica al nitruro di silicio a 60 bar Pressione e spazio di lavoro personalizzabile

Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato

Forno di rivestimento CVD a rotella di sigillamento con precursori di CO e distributore di gas di secondo stadio

Forno per rivestimento CVD in ceramica Honeycomb per temperatura di processo 700-1050C e neutralizzatore di gas non elettrico opzionale

1200-2500°C Temperatura di progettazione Forno a vuoto ad alta temperatura con foro di osservazione

Dimensione e configurazione su misura fornace su misura di trattamento termico di vuoto

Fornace di sinterizzazione di vuoto del metallo 280KVA con la struttura di riscaldamento periodica

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AICL3 Precursori Forno di deposizione chimica a vapore per utensili da taglio a temperatura di processo 700-1050 °C

Fornace di sinterizzazione sensibile di vuoto della lega del carbonio di controllo dello SpA

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