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Forno di sinterizzazione per ricristallizzazione del carburo di silicio ad alta temperatura Max. 2400C 3Pa/h Tasso di aumento della pressione

Temperatura massima di lavoro: 2400℃

Uniformità della temperatura: ≤±5℃

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Dimensione e configurazione su misura fornace su misura di trattamento termico di vuoto

Dimensione: Dimensione su misura

Struttura: singola camera, tipo horizental

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Fornace di sinterizzazione del nitruro di silicio di controllo automatico per industria di cuscinetti

Colore: bianco, grigio, nero, blu

Pressione: 58/98bar

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Fornace di sinterizzazione industriale del nitruro di silicio 58/98 Antivari per l'automobile

Colore: bianco, grigio, nero, blu

Pressione: 58/98bar

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Applicazione della fornace di sinterizzazione del carburo di silicio nei mercati dentari medici

Colore: bianco, grigio, nero, blu

Pressione: 58/98bar

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Forno per rivestimento CVD a carburo di silicio per sensibilità al grafite o per anello di incisione

Imballaggi particolari: casse in legno

Tempi di consegna: 5-6 mesi

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Forno di crescita epitaxia 1500C CVD SIC per la crescita del carburo di silicio in 100010001500mm di spazio effettivo

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Forno per rivestimento CVD in ceramica Honeycomb per temperatura di processo 700-1050C e neutralizzatore di gas non elettrico opzionale

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Cina CVD Furnace Manufactures, Macchina per rivestimento di carburo di silicio

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Forno di depurazione industriale ad alta temperatura per materiali di grafite

Max.Temperatura di lavoro: 2400℃

Uniformità della temperatura: ≤±10℃

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Fornace di sinterizzazione della doppia porta con il grado/trattamento termico/180KVA di alto vuoto

Imballaggi particolari: Scatola di legno speciale

Tempi di consegna: 5-8 mesi

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RDE Macchina di rivestimento con carburo di silicio Forno di deposizione chimica a vapore CVD

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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HTCVD Forno di crescita epitaxi di carburo di silicio CVD SIC Zone di controllo di temperatura multiple

Spazio effettivo ((mm): 1000*1000*1500

Potenza di riscaldamento ((KVA): 300

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Forno di rivestimento CVD a rotella di sigillamento con precursori di CO e distributore di gas di secondo stadio

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Un vuoto di operazione del bottone che tempera fornace, fornace della nitrurazione di vuoto

Livello di pressione: 1MPa/2MPa/6MPa/10MPa

Permetta che il gas sia presentato: Ar/N2/H2/CH4

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Fornace di sinterizzazione di industriale MIM, fornace di sinterizzazione integrata Debinding di vuoto

Imballaggi particolari: Esentato dal caso di legno di ispezione

Tempi di consegna: 100-120 giorni del lavoro

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Vari generi di materiali di acciaio inossidabile prodotti da MIM Sintering Furnace

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Doppia fornace di sinterizzazione di vuoto del sistema di controllo, macchina di sinterizzazione del metallo di 6MPa HIP

Singola fornace di sinterizzazione di vuoto della camera con i dettagli di Perfact e di Incrediable

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