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vacuum pressure furnace (543)  Produttore online

Fornace ad alta temperatura di vuoto di controllo dello SpA di 320KVA Siemens

struttura: singola camera, tipo horizental

Dimensione: Su misura

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Singola fornace del HIP di sinterizzazione della camera 3312 con la funzione di raffreddamento rapida

Materiale del riscaldamento: Grafite

Garanzia: 12 mesi

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Fornace di sinterizzazione blu profonda nera bianca di pressione del gas per il materiale del nitruro del carburo

Colore: bianco, grigio, nero, blu

Potenza nominale: 120KVA, 150KVA, 480KVA

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Fornace di sinterizzazione di pressione del gas di prestazione ottimale per i materiali duri di PM dei cermet dei metalli

Colore: bianco, grigio, nero, blu

Potenza nominale: 120KVA, 150KVA, 480KVA

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Un buon prezzo. Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C in linea Video

Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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fornace di sinterizzazione di pressione del gas 1-100bar per il ℃ fino a 2100 della ceramica del nitruro di silicio

Coperture della fornace: carbonio/acciaio inossidabile

Thermocouplets: Nanmac/Jumo

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MT-CVD Forno per rivestimento HT-CVD con elevata qualità del rivestimento e reattore personalizzabile

Temperatura ricoprente: 200-1050℃

Sistema di raffreddamento: 2 insiemi delle trappole condensate raffreddate ad acqua ad alto rendimento

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Un buon prezzo. Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C in linea Video

Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Un buon prezzo. Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo in linea Video

Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Un buon prezzo. Forno di alluminizzazione chimica a vapore 900-1050C personalizzabile con codificazione Hf Zr e Si in linea Video

Forno di alluminizzazione chimica a vapore 900-1050C personalizzabile con codificazione Hf Zr e Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Applicazione della fornace di sinterizzazione del nitruro di silicio nell'industria di automobile

Colore: bianco, grigio, nero, blu

Pressione: 58/98bar

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Fornace di sinterizzazione del nitruro di silicio nell'applicazione industriale che tratta metallo fuso

Colore: bianco, grigio, nero, blu

Pressione: 58/98bar

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L'appannamento di New Look RDE controlla la fornace di sinterizzazione con la regolazione intelligente della sinterizzazione

Tipo: Controllo intelligente

Colore: verde, nero, bianco, grigio

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Un buon prezzo. Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato in linea Video

Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di sinterizzazione per ricristallizzazione del carburo di silicio ad alta temperatura Max. 2400C 3Pa/h Tasso di aumento della pressione

Temperatura massima di lavoro: 2400℃

Uniformità della temperatura: ≤±5℃

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Dimensione e configurazione su misura fornace su misura di trattamento termico di vuoto

Dimensione: Dimensione su misura

Struttura: singola camera, tipo horizental

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