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IL FILM È LO "SCHELETRO, I VASI SANGUIGNI, LA PELLE E IL CERVELLO" DEL CHIP, E TUTTI QUESTI ELEMENTI SONO INDISPENSABILI.

2026-08-12

Perché il semiconduttore ha bisogno di pellicole sottili?

Un singolo chip è, in sostanza, una struttura tridimensionale formata dall'accoppiamento preciso di centinaia di strati di film sottile.

Ogni strato ha una funzione specifica:

Tipo di pellicola sottile	Funzione	Materiali tipici
Strato conduttivo	Condurre corrente elettrica e collegare dispositivi	Al, Cu, W, TiN
Strato di isolamento	Isolare i circuiti e prevenire le perdite elettriche	SiO2, SiN, Low-k
Strato di barriera	Prevenire la diffusione e migliorare l'affidabilità	TaN, TiN, W
Materiale della porta	Scambio del dispositivo di comando	Poli-Si, porta metallica
Strato di passivazione	Proteggere la superficie e migliorare la stabilità	SiN, SiON
Strato dielettrico	Conservare la carica elettrica per realizzare le funzioni

Tecnologia a pellicola sottile a semiconduttori

PVD: gli atomi vengono espulsi dal bersaglio sul wafer con mezzi fisici;
CVD: le pellicole sottili si formano attraverso reazioni chimiche di gas sulla superficie del wafer.

Come si forma il film?

1- Fonte materiale: bersaglio solido, reagente gassoso o precursore chimico;
2- Trasporto: tramite plasma, vuoto, gas vettore o diffusione;
3Reazione superficiale: l'assorbimento fisico o la reazione chimica si verificano sulla superficie del wafer;
4Nucleation & Growth: Aggregazione atomica per nucleation, crescita isolante, formazione continua di pellicole e densificazione;
5. Formazione del film: forma un film sottile con spessore crescente, struttura densa e microstruttura stabile.

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