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Forno di graffitizzazione a vuoto industriale per materiale a carbonio

Max.temperatura di lavoro ((°C): 2500

Vuoto finale (Pa): 1

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Metallurgia della polvere attrezzature di riscaldamento industriali forno di persistenza

Max.pressione di lavoro ((MPa): 1-10

Max.Temperatura di lavoro: 2000

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Forno di brasatura ad altissimo vuoto e ad alta temperatura per acciaio o rame a 800-1300°C

Max.temperatura di lavoro ((°C): 1300

Temperature uniformity(℃）: ≤±3

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Trattamento termico materiale acido ossalico di SUS di Debinding MIM Sintering Furnace For

Coperture della fornace: carbonio/acciaio inossidabile

Colore: Personalizzabile

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Forno di sinterizzazione a caldo per la stampa oscillante per ceramiche, carburi refrattari, cermeti, polveri composite

Maximum static pressure: 1500/2100/2300℃

Dimension of constant temperature zone: Ф160x160 mm/Ф160x200 mm

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Camera di rivestimento a temperatura in lega Resistenza elettrica Forno CVD di riscaldamento per substrati metallici o ceramici di dimensioni personalizzabili

Metodo di rivestimento: Deposito di vapore chimico (CVD)

Potenza totale: Circa 40/50/60/80KW

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La fornace di sinterizzazione di vuoto per il carburo di tungsteno inserisce gli strumenti per tornitura del trapano

Uso: Fornace di sinterizzazione

Garanzia: 1 anno

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Fornace di sinterizzazione facile da usare di vuoto della ceramica per il carburo cementato

Uso: fornace di sinterizzazione

Garanzia: 1 anno

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Forno di deposizione di vapore a vuoto ad alta temperatura con intervallo di temperatura massima di 1100 °C

Reattore: 2 pezzi

Temperatura massima:: 1100℃

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Materiale a basso rumore di SUS di MIM Sintering Furnace For con la prestazione eccellente

Tipo: MIM Parts, fornace di sinterizzazione

Uso: Fornace di sinterizzazione, fornace di trattamento termico

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori per utensili di taglio del carburo di tungsteno/cementato

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di deposizione a vapore avanzato CVD/CVI per rivestimento a TiC TiN TiCN a-AL2O3 e K-AI2O3 a temperatura di processo 700-1050C

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Tipi di rivestimento: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Forno di rivestimento per deposizione chimica dei vapori con precursori di TiCL4, AICL3 e gas di processo

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno per rivestimento CVD in ceramica Honeycomb per temperatura di processo 700-1050C e neutralizzatore di gas non elettrico opzionale

Temperatura di processo (°C): 700-1050

Precursori e gas di processo: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forno di depurazione industriale ad alta temperatura per materiali di grafite

Max.Temperatura di lavoro: 2400℃

Uniformità della temperatura: ≤±10℃

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Forno di sinterizzazione per ricristallizzazione del carburo di silicio ad alta temperatura Max. 2400C 3Pa/h Tasso di aumento della pressione

Temperatura massima di lavoro: 2400℃

Uniformità della temperatura: ≤±5℃

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Fornace di sinterizzazione di pressione del gas

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Fornace di alto vuoto

Accessori della fornace di sinterizzazione

Forno a carburo del silicio

Macchina di rivestimento di CVD

Vacuum sintering furnace with heat insulation materials

Forno CVD con rivestimento TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizzabile con temperatura di processo 700-1050C

Funzione automatica dell'interruttore di sicurezza della fornace di sinterizzazione della doppia porta

Orizzontale di tempera della fornace di sinterizzazione del metallo di vuoto del molibdeno

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